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平成13年度新聞記事一覧
絶縁膜新形成法（平成１３年１２月４日（火））
| 中国新聞 絶縁膜に新形成法 広島大開発 LSIの性能向上 |
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| 日刊工業新聞 トランジスタ寿命１０倍 LSI用ゲート絶縁膜広島大学が新形成法 |
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| 日本工業新聞 広島大、高信頼性LSIへ新技術 ゲート絶縁膜の寿命１０倍に 原子数個レベル窒化膜を積層 |
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| 日経新聞 超LSI用絶縁膜 広島大、寿命１０倍に |
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| 東広島プレスネット 故障の少ないLSI製造が可能に 広島大教授らが開発 |
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| 讀賣新聞 広大・中島助教授、横山教授グループ ゲート絶縁膜新製造法を開発 トランジスター 寿命１０倍に |
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| 電波新聞 超LSI用ゲート絶縁膜 広島大が新形成方法 素子の信頼性を大幅向上 |
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センター紹介記事（平成１３年１０月１１日（水））
| 日刊工業新聞 広島大学ナノデバイス・システム研究センター ナノテクで新産業革命、先端研究室の挑戦 集積回路の将来／人間の認識能力に迫る |
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超高速画像認識（平成１３年２月７日（水））
| 毎日新聞 高性能LSI開発 広島大グループ １０倍速で画像認識 |
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