contactHome

広島大学21世紀COEプログラム成果報告

学長巻頭言

拠点リーダーメッセージ

COE概要

事業推進者

ワークショップ

業績

外部評価結果の概要

研究グループ別主要論文


課題別成果報告

回路・システムアーキテクチャ
無線インタコネクションを用いた三次元集積技術
岩田 穆、佐々木守、吉田 毅、亀田成司、安藤博士、吉川公麿、佐々木信雄、木本健太郎
詳細

インダクタ結合を利用した3次元集積ICチップ間の無線相互接続
佐々木守、有薗大介、岩田 穆

詳細

無線インタコネクタを用いた脳型視覚システムの開発
亀田成司、岩田 穆

詳細

マルチオブジェクト認識システムの開発
安藤博士、岩田 穆

詳細

CMOSアナログLSIのための低雑音・低電圧回路技術
吉田毅、岩田 穆

詳細

動的環境で動作する自律ロボットのためのメモリ容量を低減したモジュール学習
小野将寛、岩田 穆

詳細

類似度の重み付け平均を用いる領域ベース両眼立体視システム
佐々木寛弥、亀田成司、安藤博士、佐々木守、岩田 穆

詳細

放射型発信回路を用いた準ミリ波帯CMOSフロントエンド回路の研究
向井 徹、岩田 穆

詳細

超低電圧動作・低雑音CMOS増幅回路の設計法
升井義博、岩田 穆

詳細

差動構成VCOにおけるクロストーク雑音の評価
外谷昭洋、岩田 穆

詳細

Functional-Memory Architectures for Information-Processing Systems
Hans Jurgen Mattausch、小出哲士、上口 光、Anwarul Md Abedin

詳細

認識と学習機能を可能にする機能メモリベースLSIシステムアーキテクチャ
小出哲士、Hans Jurgen Mattausch、森本高志、山岡功祐、粟根和俊、Ali Ahmadi、溝上政弘、白川桂則、熊木武志、黒田泰斗、幸野豊、石崎雅勝

詳細

Developing a Cognitive System for Pattern Recognition and Hardware Implementation in FPGA
Ali Ahmadi, Tetsushi Koide, M. Anwarui Abedin and Hans Jurgen Mattausch

詳細

デバイス・モデリング

デバイス・回路設計用モデルHiSIMの高速・光通信に向けた研究開発
三浦道子、 Hans Jurrgen Mattausch、江崎達也、上野弘明、金野幸吉、Navarro Dondee、貞近倫夫、上辻康人、鈴木 学、細川 聡、松島 理、溝口 健

詳細

SOI-MOSFETの回路シミュレーションモデルの開発
貞近倫夫、三浦道子

詳細

光電子デバイスのモデル化
金野幸吉、松島 理、鈴木 学、原 清人、三浦道子

詳細

ナノデバイス・プロセス

微細化基盤技術:ナノスケールMOSFETのプロセス・デバイス技術
芝原健太郎、細井卓治、 黒部憲一

詳細

フルシリサイドゲートのためのNiSi形成反応のその場TEM観察
細井卓治、芝原健太郎

詳細

極微細SOI立体MOSトランジスタの研究
角南英夫、奥山 清、片山 朗、子林 景、松村俊平、吉川浩二

詳細

独立3ゲートSOIMOSトランジスタ開発及び立体チャネルデバイスのソース・ドレインシリサイド化プロセスの研究
奥山 清、松村俊平、吉川浩二、杉村 温、角南英夫

詳細

シリコン系量子ドットの荷電状態制御と機能メモリ応用
宮崎誠一、東清一郎、村上秀樹

詳細

熱プラズマジェットを用いたミリ秒急速熱処理の半導体プロセス応用
東清一郎、宮崎誠一、村上秀樹

詳細

シリサイドゲート(NiSi)/SiO2界面近傍の化学結合状態および実効仕事関数評価
村上秀樹、吉永博路、東 大介、大田晃生、宗高勇気、東清一郎、青山敬幸、保坂公彦、芝原健太郎、宮崎誠一

詳細

極薄HfSiOxNy/Si(100)構造の光電子分光分析
大田晃生、中川 博、村上秀樹、東清一郎、宮崎誠一、犬宮誠治、奈良安雄

詳細

HfO2/Ge(100)構造における光電子分光分析
中川 博、大田晃生、村上秀樹、東清一郎、宮崎誠一

詳細

三次元無線・高速インターコネクトの研究
吉川公麿

詳細

チップ間無線通信のための超広帯域受信回路の開発
佐々木信雄、吉川公麿

詳細

光インターコネクション集積化技術の研究
横山 新、田主裕一朗、鈴木昌人

詳細

シリコンチップ内光配線のためのリング共振器型光スイッチ
田主裕一朗、横山 新

詳細

(Ba,Sr)TiO3薄膜を用いたSi上モノリシックマッハツェンダ光変調器の低温形成
鈴木昌人、田主裕一朗、Zhimou Xu、横山 新

詳細

微細MOSFETに必要な高信頼性ゲート絶縁膜の開発
中島安理

詳細

Atomic-Layer-Deposition of High-k Gate Dielectrics for Scaled MOSFETs
Shiyang Zhu and Anri Nakajima

詳細

ページ先頭へ